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        快速紅外輻射鍍金聚焦爐

        快速紅外輻射鍍金聚焦爐

        所屬類別:定制定做紅外輻射加熱器
        產(chǎn)品描述:我所以優(yōu)質(zhì)紅外發(fā)熱管為加熱元件,采用紅外線鏡面反射技術(shù),成功研制出快速紅外輻射鍍金聚焦爐。該加熱裝置解決了傳統(tǒng)電爐升降溫速度慢、使用效率低等難點,控制部分采用智能化控溫系統(tǒng),可控硅控制,爐體為雙層爐殼,采用水冷系統(tǒng)/風冷系統(tǒng),延長加熱元件壽命。
        銷售/服務(wù)范圍:許昌市紅外技術(shù)研究所有限公司是一家生產(chǎn)銷售紅外輻射加熱的公司,歡迎咨詢紅外輻射加熱相關(guān)問題。
        產(chǎn)品詳情

        一、產(chǎn)品簡介:

         我所以優(yōu)質(zhì)紅外發(fā)熱管為加熱元件,采用紅外線鏡面反射技術(shù),成功研制出快速紅外輻射鍍金聚焦爐。該加熱裝置解決了傳統(tǒng)電爐升降溫速度慢、使用效率低等難點,控制部分采用智能化控溫系統(tǒng),可控硅控制,爐體為雙層爐殼,采用水冷系統(tǒng)/風冷系統(tǒng),延長加熱元件壽命。

                          

        拋物線聚焦圖例             橢圓聚焦圖例

        二、技術(shù)參數(shù):

        1、最高溫度:1700℃,長期使用溫度:1600℃(注:理論最高溫度和實際最高溫度取決于試樣材料。)
            2、最高區(qū)間升溫速率:>280℃/s;  
            3、電壓功率:220(380)V;6-36kw;
            4、加熱方式:紅外輻射加熱;
            5、加熱區(qū)間:點、線(柱狀)、面加熱;
            6、反射面冷卻方式:水冷;
            7、控溫精度:±1℃;
            8、溫度顯示精度:0.1℃;
            9、控制方式:配備智能溫控儀表,可控硅控制,可實現(xiàn)30段程序控溫。

        三、主要功能和特點

        1、可擴展在真空/不同氣氛/不同環(huán)境下,對不同產(chǎn)品、樣品進行快速熱處理;

        2、溫控精度高;

        3、適合高校、科研院所、企業(yè)實驗室使用;

        4、操作方便,試樣裝取容易;

        5、價格合理,性價比高。

        四、主要用途

        1、電子材料

        1)硅(Si)和化合物半導體的實時分析器(RTA);

        2)薄膜成型的熱源;

        3)離子注入后的激活器;

        4)硅化物成型的熱源。

        2、陶瓷材料/無機材料

        1)陶瓷基片層壓板的退火爐;

        2)玻璃基片的退火爐;

        3)陶瓷拉伸、彎曲試驗的退火爐;

        4)超導陶瓷的退火爐;

        5)陶瓷加熱、循環(huán)加熱試驗的退火爐。

        3、鋼制材料/金屬材料

        1)薄鋼板加熱過程分析爐;

        2)焊接分析爐;

        3)高溫(1000℃以下)真空加熱試驗爐;

        4)大氣條件熔化過程分析爐;

        5)高壓下,難熔鋼和鋁循環(huán)加熱試驗爐;

        4、復合材料

        1)絕熱性評估測試用爐;

        2)無機化合物循環(huán)加熱試驗爐。

        5、其他

        1)高溫條件下,拉伸、壓縮試驗用爐;

        2)分段控制爐;

        3)溫度梯度爐;

        4)析出氣體分析爐。

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